Kimia Permukaan dan Koloid

Buku ini disusun sebagai bentuk kontribusi dalam memperluas wawasan tentang fenomena kimia pada antarmuka dan sistem koloid. Materi yang dibahas memiliki relevansi tinggi dalam berbagai bidang ilmu dan teknologi, seperti kimia industri, farmasi, lingkungan, dan nanoteknologi. Konsep-konsep fundamental kimia permukaan dikaji mulai dari energi antarmuka dua fasa, tegangan permukaan, hingga zat aktif permukaan (surfaktan) dan sistem larutan bermisel. Termodinamika pembentukan misel serta karakteristik sistem koloid dan aplikasinya dijelaskan secara rinci dan mudah dipahami. Buku ini juga menyajikan hasil-hasil penelitian terkini, sehingga dapat menjadi referensi bagi mahasiswa, peneliti, dan praktisi industri dalam mengembangkan ilmu dan teknologi berbasis kimia permukaan dan koloid.